更新時間:2026-10-24
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整機由內置采樣泵、兩級過濾組件、旁路分流氣路、氧化鋯傳感探頭、恒溫加熱模塊、信號轉換與顯示輸出單元組成。氣路設計包含進氣過濾、旁路排氣支路,樣氣總量 1000~2000mL/min,僅分流一小部分(約 60mL/min)進入傳感器腔室,其余氣體從旁路排出;搭配專用復合濾芯,攔截助焊劑揮發物、粉塵、硅系及鹵素污染物,保護鋯探頭鉑電極,是這款機型區別于 LC-450A 的核心設計亮點,適配回流爐復雜煙氣工況。
主動泵吸取樣內置微型抽氣泵持續工作,從爐體氮氣保護腔抽取樣氣,即使爐內微正壓或者壓力波動,依然可以穩定獲取樣氣,避免自然擴散式采樣響應慢、數據滯后的問題。
前置多級過濾防護樣氣先經過顆粒過濾器、特殊吸附濾芯,截留回流制程產生的助焊劑煙氣、粉塵、有機揮發物,防止污染物附著在氧化鋯電極表面造成傳感器中毒漂移。濾芯支持在線更換,不用整機停機拆裝。
旁路分流穩壓進入儀器的總樣氣經過流量調節閥穩定流量,大部分氣體直接從旁路口排出,小部分恒定流量送入傳感器檢測腔。分流結構能夠降低傳感器的氣流沖擊,流量波動更小,讀數穩定性更好,同時加快氣體置換速度,縮短響應時間。
核心檢測元件為釔穩定氧化鋯固體電解質,兩側燒結多孔鉑電極,探頭被加熱恒溫維持在 700℃左右。
高溫狀態下氧化鋯具備氧離子導電特性;探頭一側接觸被測樣氣,另一側以環境空氣作為參比氣(氧濃度 20.9%),兩側氧分壓存在差值。
氧分壓高一側的氧氣在鉑電極得到電子,轉化為氧離子,穿過氧化鋯固體電解質遷移至低分壓一側,再還原為氧氣;離子遷移過程在外電路形成可檢測的濃差電動勢。
電勢大小符合能斯特(Nernst)方程,儀器采集電勢信號,結合探頭溫度補償運算,換算輸出氧濃度數值。
注:RF-400-01 保證量程起點為 10ppm,低于 10ppm 不做精度保證,和 LC-450A 可測 0.1ppm 微量氧形成定位差異。
儀器搭載 4 位數碼管直接顯示氧濃度,支持自動量程切換;標配 4-20mA 模擬量輸出以及 RS232C 數字通訊,可對接回流爐 PLC,實現氧含量聯鎖控氮。寬電壓 AC100~240V 供電,面板式 / 臺式兩種安裝方式,適合設備集成配套。
SMT 回流焊爐氮氣保護氛圍殘氧在線監測;
電子行業氮氣烘烤爐、熱處理爐氧濃度監控;
惰性保護氣氛制程,氮氣純度在線管控。
優先保證前置濾芯定期更換,回流爐助焊劑煙氣是傳感器失效最主要原因;
取樣管路必須氣密,防止外界空氣滲入,造成氧讀數虛高;
樣氣露點需要低于環境溫度,避免管路凝水;
需要定期使用標準氣體校準,保證測量精度;
傳感器屬于高溫元件,停機后不要立刻拆解探頭組件。