# 2026年新品發布會#

日期：2026年7月13日

時間：8：30-18：30

近期我司新推出升級了

ANALYZER 第一熱研 TB-ⅡF 系列新一代微量氧分析儀上新

針對半導體 CVD/PVD、真空燒結、氫能惰性保護場景，推出 TB-ⅡF 升級傳感模組，優化氧化鋯陶瓷電解質燒結工藝，解決微量氧雜質干擾問題。

核心升級點

測量量程：0.1ppm~100%O?全跨度無檔位切換，原生抗氫氣、一氧化碳交叉干擾；

工況適配：可直接插入高粉塵真空腔體，內置多級防堵過濾結構，適合長時間 24h 連續在線監測；

落地成效：國內多家晶圓封裝廠替換老舊進口氧分析儀后，氧化不良故障率從 0.8% 降至 0.1%，惰性氣體耗材消耗量下降 12%。

TB-ⅡF 檢測核心采用穩定化氧化鋯固體電解質傳感原理：

氧化鋯陶瓷在額定工作溫度下具備氧離子傳導特性，探頭內外兩側氧分壓差轉化為對應電勢信號，控制器通過換算直接輸出 ppm / 百分比氧濃度數值；

區別于電化學傳感器存在電解液損耗、壽命短、易中毒缺陷，氧化鋯式無耗材設計，僅需定期簡易校準，適配連續在線監測場景，是高溫、潔凈、惰性氣氛環境下的優選測氧技術路線。

TB-ⅡF 按氣路接頭分為四大標準型號，覆蓋管路螺紋、卡套、VCR 真空密封主流工業接口，可直接對接工藝氣路無需轉接配件：

TB-ⅡF-P：Rc1/8 內螺紋接口，高響應版本，適配 0.2~2L/min 小流量高純氣回路

TB-ⅡF-R：Rc1/4 內螺紋接口，通用工業標配，支持 0.5~5L/min 寬流量采樣

TB-ⅡF-S：1/8 英寸楔鎖卡套接頭，適配實驗室、小型制氮設備快裝管路

TB-ⅡF-V：4VCR 超高真空密封接口，半導體腔體、真空爐專用無泄漏版本

超寬全域量程，一機覆蓋多工藝需求

從高純氮氣 1ppm 微量雜質氧，到空氣 100% 氧濃度可連續測量，單支探頭無需更換硬件即可切換 ppm / 百分比顯示模式，一套設備可兼顧前端氣體純化監測與后端腔體氣氛管控，減少多型號儀器采購成本。

2. 多層復合防護結構，惡劣工況長效耐用

傳感芯體外部增設多級粉塵過濾 + 耐腐合金屏蔽層，可阻擋工藝粉塵、酸性腐蝕性氣體侵入陶瓷基體，在熱處理爐煙氣、化工尾氣、等離子腔體環境下傳感器使用壽命延長至 24 個月，相較上代產品運維更換周期提升 30%。

3. 流量兼容性，適配無泵吸直采場景

常規氧分析儀對進氣流量嚴苛受限，TB-ⅡF 經過流體仿真優化氣路腔體，0.2~5L/min 大范圍流量內測量數據穩定，可直接采用工藝管路正壓自流采樣，無需額外加裝精密流量調節閥與抽氣泵，簡化現場氣路搭建。

4. 模塊化分體設計，集成改造靈活便捷

傳感器探頭與顯示控制單元信號分離，探頭可伸入狹小腔體、真空設備內部安裝，控制器面板嵌入式 DIN 標準開孔安裝于控制柜，支持 4-20mA 模擬量、RS485 Modbus 雙路信號輸出，無縫對接 DCS、PLC 上位系統，便于產線數據上云與自動化聯鎖控制。

5. 極簡運維設計，降低現場人工成本

整機無易損耗耗材，僅需年度單點校準即可維持精度；探頭拆裝結構標準化，無需專業工具即可快速拆卸送檢校準，老舊產線改造可直接替換同品牌前代 TB 系列探頭，原有控制器無需更換，項目改造成本極低。