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原裝現貨HORIBA堀場IR-300氣體濃度監測儀 用于鼓泡供應管線的在線氣體濃度監測器。用于原料氣體的穩定供應。 MOCVD（金屬有機化學氣相沉積）廣泛應用于LED制造工藝和光學器件制造工藝中。該 MOCVD 設備采用液體/固體材料，通常使用鼓泡方法將其作為汽化氣體輸送到腔室。

進口供應HORIBA堀場氣體監測儀IR-400 隨著半導體制造薄膜沉積工藝中微細加工的進步，處理后保持腔室清潔對于提高生產率變得非常重要。 IR-400系列是用于薄膜沉積工藝的腔室清潔終點檢測監視器，可實時監測廢氣成分（SiF4、CF4）。通過優化干洗終點檢測、減少清潔氣體消耗和時間以及減少室損壞，有助于延長零件的使用壽命。

原裝供應HORIBA堀場隔膜真空表VG-200S 過程壓力測量是半導體、平板顯示器、光伏板、硬盤、涂料等許多行業的一項重要技術。電容式壓力計利用帶有對電極的電容來測量膜片兩側壓力差引起的位移量，并將其轉換為壓力。

日本進口HORIBA堀場激光氣體分析儀LG-100 LG-100系列配備了HORIBA專有的紅外氣體分析技術“IRLAM TM ”（紅外激光吸收調制），可實時測量半導體制造蝕刻過程中產生的廢氣成分SiF4，并檢測微量的SiF可以從4中檢測端點的變化。

原裝HORIBA堀場排氣壓力控制器EC-5104 這是一種排氣壓力控制器，可將腔室的內部壓力控制為您選擇的恒定值。高分辨率步進電機結構的蝶閥提供高速響應和高分辨率性能。

日本原裝HORIBA堀場PV-1000壓電閥 一種高速響應閥，用于使用來自外部設備的控制信號來控制氣體流量或壓力。采用金屬膜片和金屬O型圈。與氣體接觸的部件采用全金屬結構，兼容超潔凈。不僅可以控制氣體，還可以控制液體。