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山本鍍金 電鍍?cè)O(shè)備 精密過(guò)濾套裝**半導(dǎo)體晶圓電鍍標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)槽,面向高校、研究所、封測(cè) / 芯片研發(fā)實(shí)驗(yàn)室,用來(lái)篩選鍍液、驗(yàn)證電鍍工藝、做樣片打樣,兼顧少量小批量樣品制備**;對(duì)標(biāo)同類型晶圓旋轉(zhuǎn)電鍍實(shí)驗(yàn)單元,屬于行業(yè)內(nèi)認(rèn)可度很高的標(biāo)準(zhǔn)機(jī)型,
產(chǎn)品分類
山本鍍金 電鍍?cè)O(shè)備 精密過(guò)濾套裝
山本鍍金 電鍍?cè)O(shè)備 精密過(guò)濾套裝
半導(dǎo)體晶圓電鍍標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)槽,面向高校、研究所、封測(cè) / 芯片研發(fā)實(shí)驗(yàn)室,用來(lái)篩選鍍液、驗(yàn)證電鍍工藝、做樣片打樣,兼顧少量小批量樣品制備;對(duì)標(biāo)同類型晶圓旋轉(zhuǎn)電鍍實(shí)驗(yàn)單元,屬于行業(yè)內(nèi)認(rèn)可度很高的標(biāo)準(zhǔn)機(jī)型,
晶圓自轉(zhuǎn) + 槳葉往復(fù)攪拌雙對(duì)流流場(chǎng)晶圓 0~80rpm 可調(diào)自轉(zhuǎn),搭配槳式擾動(dòng),配合溢流循環(huán),槽內(nèi)鍍液更新快,降低濃差極化,改善高深寬比結(jié)構(gòu)填孔能力,整片晶圓鍍層均勻性好,減少中心 / 邊緣偏差。
溢流穩(wěn)壓 + 循環(huán)過(guò)濾系統(tǒng)恒液面溢流設(shè)計(jì),浸入深度穩(wěn)定,多次實(shí)驗(yàn)重復(fù)性強(qiáng);內(nèi)置精密過(guò)濾,減少鍍液顆粒,降低針孔麻點(diǎn)缺陷,適合精密凸點(diǎn)、薄金屬布線工藝。
模塊化夾具,單面 / 雙面可選,抑制爬鍍標(biāo)配陰極夾具,分標(biāo)準(zhǔn)型、密封型、真空吸引密封夾具;密封夾具只在開(kāi)口區(qū)域電鍍,抑制側(cè)邊爬鍍、漏電,適合 UBM、RDL 單面電鍍;STD 型號(hào)支持雙面同步電鍍,一次完成正反面鍍層
完整配套生態(tài),可自由組合可搭配原廠 A-57 系列精密電鍍電源、YPT/YTC 溫控器、PFA / 石英加熱組件,溫控、電流、攪拌獨(dú)立可調(diào);支持直流、脈沖電鍍,適配銅、鎳、金、錫、合金等多種鍍液體系。
材質(zhì)防腐、合規(guī)性好主體亞克力,強(qiáng)酸體系可升級(jí) PVDF;CE、UKCA 認(rèn)證,符合 IEC 安全標(biāo)準(zhǔn),潔凈實(shí)驗(yàn)室適配;本體為實(shí)驗(yàn)槽單元,體積小巧,占用通風(fēng)櫥空間小
優(yōu)良封裝:TSV 硅通孔填銅、RDL 重布線、UBM 底層金屬、微凸點(diǎn)(Bump)電鍍工藝開(kāi)發(fā)、鍍液添加劑篩選
MEMS、傳感器:硅基微結(jié)構(gòu)、微流控器件、LIGA 厚金屬結(jié)構(gòu)電鍍研發(fā)
功率半導(dǎo)體:SiC、GaAs 等化合物晶圓電極金屬化實(shí)驗(yàn)
科研方向:高校、中科院、微電子實(shí)驗(yàn)室,電鍍機(jī)理、鍍層應(yīng)力、均勻性、合金鍍層研究
光伏、微納器件:硅片電極、薄膜金屬化、掩膜后圖形電鍍小試打樣