更新時間:2026-10-15
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設(shè)備本體檢查檢查主機滾輪表面無劃痕、異物、磨損,滾輪轉(zhuǎn)動順滑無卡頓、異響;電源線、控制面板完好,按鍵、定時功能正常。確認設(shè)備放置在平穩(wěn)、防震的臺面,設(shè)備四周預留安全空間。
研磨罐與介質(zhì)檢查檢查球磨罐無裂紋、崩缺,罐蓋密封墊圈完好無老化。檢查 YTZ 氧化鋯球 / 氧化鋁研磨球,挑選無崩邊、破損的磨球,清理球表面殘留舊粉體。
提示:不同樣品必須分開使用罐體與磨球,防止交叉污染,高純粉體實驗尤為重要。
物料配比準備提前計算物料、研磨介質(zhì)、溶劑(濕法)配比。一般磨球填充量約罐體容積 30%~60%;濕法工藝按配方加入分散溶劑,干法直接添加干粉物料。
安全確認臺面清理干凈,設(shè)備周邊無雜物,確認罐體放置位置不會發(fā)生滑脫。
將待研磨物料、研磨球依次裝入球磨罐,濕法工藝加入對應(yīng)溶劑。物料不可裝填過滿,防止研磨過程物料溢出。
清潔罐口密封面,扣緊罐蓋,均勻鎖緊卡扣,保證罐體密封,防止粉塵外泄或液體滲漏。
將裝好物料的研磨罐平穩(wěn)放置在主機兩根驅(qū)動滾輪之間,確認罐體貼合滾輪,左右位置居中,罐體放置穩(wěn)固,不會滾動滑脫。可同時放置對稱罐體,保持設(shè)備運行平衡。
確認罐體和滾輪無干涉,罐體兩端不觸碰設(shè)備擋板。
接通電源,設(shè)備上電自檢,確認無故報警。
根據(jù)物料工藝需求設(shè)置轉(zhuǎn)速、研磨時長。
低轉(zhuǎn)速:以摩擦、剪切為主,適合超細精磨,減少介質(zhì)破碎;
中轉(zhuǎn)速:沖擊 + 研磨協(xié)同,粉碎效率更高;嚴禁轉(zhuǎn)速過高,防止磨球貼壁失去研磨效果。
參數(shù)確認完成,按下啟動鍵,設(shè)備滾輪開始轉(zhuǎn)動,帶動球磨罐回轉(zhuǎn)。
開機初期觀察 3~5 分鐘,觀察罐體運轉(zhuǎn)狀態(tài),檢查有無打滑、劇烈震動、物料滲漏、異響等異常,一旦出現(xiàn)異常,立刻停機檢查。
研磨運行過程,不要靠近、觸碰旋轉(zhuǎn)罐體,禁止打開設(shè)備防護蓋板。
定時觀察設(shè)備運行狀態(tài),留意有無異常噪音、異味。如果罐體出現(xiàn)移位、打滑,緊急停機處理。
到達設(shè)定研磨時間,設(shè)備自動停止運轉(zhuǎn)。必須等待罐體靜止后,再靠近取罐,禁止在罐體未停穩(wěn)時伸手操作。
設(shè)備停機,確認罐體靜止,雙手取下研磨罐。
緩慢松開罐蓋卡扣,緩慢開蓋,泄壓(濕法研磨注意罐內(nèi)壓力)。
將研磨后的物料倒出,分離研磨球與粉體樣品。濕法樣品可使用篩網(wǎng)分離磨球;干法粉體注意防塵收集。
樣品收集完成,記錄樣品編號、研磨參數(shù)、研磨時間,留存實驗記錄。
清空罐內(nèi)物料,使用軟毛刷、無塵布清理罐壁、罐蓋殘留粉體。濕法研磨可選用對應(yīng)溶劑清洗罐體,清洗后充分晾干。
研磨球清洗干凈,干燥后分類存放。
清理主機滾輪上灑落的粉料,保持滾輪表面清潔。
長期不用,關(guān)閉設(shè)備電源,做好防塵保護。
嚴禁罐體裝填不平衡、單邊單罐長期運行,會造成設(shè)備震動,損傷滾輪軸承。單罐研磨時,必須使用配重罐保持平衡。
研磨過程嚴禁開蓋,不要用手觸碰旋轉(zhuǎn)罐體。
罐體出現(xiàn)裂紋、密封圈老化破損,禁止繼續(xù)使用,防止泄漏。
易燃易爆、易發(fā)生劇烈反應(yīng)的物料,禁止直接使用罐磨機研磨。
禁止超最高轉(zhuǎn)速運行,過高轉(zhuǎn)速會降低研磨效率,加速罐體、磨球磨損。
清洗滾輪不要大量沖水,防止水分進入設(shè)備內(nèi)部,造成電路短路。
罐體打滑:滾輪表面有粉塵油污,清理滾輪;罐體放置位置偏移;負載過重。
設(shè)備震動大:罐體不平衡,缺少配重;滾輪磨損;臺面不平穩(wěn)。
研磨后粒徑偏大:轉(zhuǎn)速設(shè)置偏低、研磨時長不足;磨球配比不合適。
物料滲漏:罐蓋沒有鎖緊;密封墊圈老化;裝填量過大。