EBARA荏原    真空泵   無油不返污

EBARA荏原    真空泵   無油不返污

**半導(dǎo)體 / 泛半導(dǎo)體中制程無油干式真空泵，模塊化節(jié)能型干泵**

面向晶圓、面板、光伏產(chǎn)線 Subfab，主打一機(jī)兼容多類含輕度腐蝕、少量副產(chǎn)物制程，兼顧小型化、節(jié)能與低總擁有成本（TCO）的模塊化無油干泵

特點 & 優(yōu)勢

1. 無油干式結(jié)構(gòu)，無返油污染，滿足潔凈制程要求

2. 寬范圍獨立溫控系統(tǒng)，可按工藝調(diào)溫，抑制副產(chǎn)物凝結(jié)，延長保養(yǎng)周期

3. 模塊化設(shè)計，整機(jī)體積緊湊，占地面積比競品縮小約 30%+

4. 標(biāo)配耐蝕材質(zhì)；可選升級高耐蝕材質(zhì)包，應(yīng)對鹵素類腐蝕氣體

5. 50/60Hz 同源性能，海外產(chǎn)線、國內(nèi)產(chǎn)線機(jī)型通用

6. 節(jié)能 BLDC 電機(jī)，待機(jī)功耗低，長期運行電費優(yōu)勢明顯

7. 一機(jī)適配多種工藝，備品型號少，庫存與運維成本降低

8. 支持 SEMI?S2、CE、NRTL 安全認(rèn)證，滿足晶圓廠規(guī)范

9. 低振動低噪音，適配潔凈廠房 Subfab 布置

應(yīng)用場景（介質(zhì)僅限清水、潔凈冷熱水）

1. 半導(dǎo)體：各類蝕刻、PECVD/HDP-CVD、灰化 Ashing、離子注入、外延生長 Epi、濺射 PVD荏原製作所

2. 光伏、顯示面板：薄膜沉積、刻蝕制程真空抽吸

3. 科研真空、SEM / 分析設(shè)備配套（中真空需求）?適配：含輕度腐蝕氣體、少量反應(yīng)副產(chǎn)物的工藝